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電子級氫氟酸

分子式:HF-H2O       聯合國編號:1052      危險級別:8/6.1

用途:主要用于集成電路工業中芯片清洗與腐蝕,是微電子技術加工過程中不可缺少的關鍵化學品之一;也用于液晶顯示器(TFT-LCD)行業中對玻璃基板、氮化硅、二氧化硅蝕刻;還用于太陽能電池行業硅表面清洗、蝕刻。

理化性質:分子量:20.01;為無色透明液體,呈弱酸性,有強烈的刺激性氣味,強腐蝕。濃度50%的氫氟酸密度為1.157g/ml,在大氣壓下沸點為107℃,冰點為-46.3℃,常溫下比熱3.1J/g.℃,18℃時,當量電導率為17.32Ω-1cm-1。與金屬鹽、氧化物和氫氧化物作用產生氟化鹽,能侵蝕玻璃和硅酸鹽而生成氣態的四氟化硅。

質量指標:

項目 指標
EL級 UP級 UP-S級 UP-SS級
含量(w/%) 49±0.5 49±0.5 49±0.5 49±0.5
色度HAZEN ≤10 ≤10 ≤7 ≤7
氟硅酸(H2SiF6)/(mg/L) ≤50 ≤50 ≤30 ≤30
氯化物(Cl)/(mg/L) ≤5 ≤5 ≤0.2 ≤0.05
硝酸鹽(NO3)/(mg/L) ≤3 ≤3 ≤0.1 ≤0.05
磷酸鹽(PO4)/(mg/L) ≤1 ≤1 ≤0.1 ≤0.05
硫酸鹽(SO4)/(mg/L) ≤5 ≤5 ≤0.2 ≤0.05
鋁(Al)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
砷(As)/(μg/L) ≤200 ≤10 ≤1 ≤0.1
硼(B)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
鋇(Ba)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
鈹(Be)/(μg/L) ≤20 ≤5 ≤1 ≤0.1
鉍(Bi)/(μg/L) ≤20 ≤5 ≤1 ≤0.1
鎘(Cd)/(μg/L) ≤50 ≤10 ≤1 ≤0.1
鈣(Ca)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
鉻(Cr)/(μg/L) ≤20 ≤10 ≤1 ≤0.1
鈷(Co)/(μg/L) ≤20 ≤10 ≤1 ≤0.1
銅(Cu)/(μg/L) ≤20 ≤10 ≤1 ≤0.1
鎵(Ga)/(μg/L) ≤20 ≤10 ≤1 ≤0.1
鍺(Ge)/(μg/L) ≤20 ≤10 ≤1 ≤0.1
金(Au)/(μg/L) ≤20 ≤5 ≤1 ≤0.1
鐵(Fe)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
鉛(Pb)/(μg/L) ≤50 ≤10 ≤1 ≤0.1
鉈(Ti)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
銻(Sb)/(μg/L) ≤50 ≤10 ≤1 ≤0.1
鋰(Li)/(μg/L) ≤20 ≤5 ≤1 ≤0.1
鎂(Mg)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
錳(Mn)/(μg/L) ≤50 ≤10 ≤1 ≤0.1
鉬(Mo)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
鎳(Ni)/(μg/L) ≤50 ≤10 ≤1 ≤0.1
鉀(K)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
銀(Ag)/(μg/L) ≤20 ≤5 ≤1 ≤0.1
鈉(Na)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
鉑(Pt)/(μg/L) ≤100 ≤10 ≤1 ≤0.1
鍶(Sr)/(μg/L) / ≤10 ≤1 ≤0.1
鉈(Tl)/(μg/L) / ≤10 ≤1 ≤0.1
錫(Sn)/(μg/L) ≤20 ≤10 ≤1 ≤0.1
釩(V)/(μg/L) / ≤10 ≤1 ≤0.1
鋅(Zn)/(μg/L) ≤50 ≤10 ≤10 ≤10
顆粒(≥0.1μm),Ea/ml ≤25 / / /
顆粒(≥0.5μm),Ea/ml / ≤25 ≤5 /
顆粒(≥0.2μm),Ea/ml / / / ≤20

包裝規格:5L加侖桶;20L桶;200L桶;1000LIBC集裝桶。

貯藏和運輸:運輸過程中避免撞擊,防止陽光直射,存儲于陰涼、通風倉庫,保持容器密封。

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